[发明专利]光学测量装置有效
| 申请号： | 201410520617.6 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104515739B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 大泽贤太郎 | 申请（专利权）人： | 日立乐金光科技株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01N21/45 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学测量装置，可抑制来自测量对象表面或测量对象保持部的反射光的影响，得到测量对象的清晰的像。本发明的光学测量装置使从光源(301)出射的激光分束为信号光、参考光和控制光，利用物镜(309)使信号光会聚照射到测量对象(312)上。控制光由离焦控制部(316、317、318)控制离焦量，并由相位控制部(313、314)控制相位。使被测量对象反射或散射的信号光与控制光合束而生成被控信号光，并使被控信号光与参考光合束，利用干涉光学系统(333)生成相位关系彼此不同的多束干涉光，进行相位分集检测。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种光学测量装置，其特征在于，包括：出射激光的光源；使所述激光分束为信号光、参考光和控制光的光分束部；使所述信号光会聚照射在测量对象上的物镜；使所述信号光的会聚位置扫描的会聚位置扫描部；控制所述控制光的离焦量的离焦控制部；控制所述控制光与信号光之间的相位差的相位控制部；使被测量对象反射或散射的信号光与所述控制光合束，生成被控信号光的被控信号光生成部；使所述被控信号光与所述参考光合束，生成相位关系彼此不同的多束干涉光的干涉光学系统；和对所述干涉光进行检测的光检测器。
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