[发明专利]一种电化学水垢去除装置有效
| 申请号： | 201410522350.4 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104261573A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 章明歅;章俊杰 | 申请（专利权）人： | 章明歅;章俊杰 |
| 主分类号： | C02F5/00 | 分类号： | C02F5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 100192 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元；所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；所述槽体的顶端设有出水口；设置于所述槽体的内部的旋转阴极；设置于所述槽体的内部的阳极。在本申请中，在旋转阴极附近，水溶液电解产生OH-，在旋转阴极附近界面层获得pH值高达14的碱性溶液，旋转电极将电化学过程中旋转阴极表面上和界面层中形成的水垢晶核扩散到溶液中，大量的晶核为溶液中的结垢离子提供了超大的晶体生长表面和晶体活性生长点；由于大量微小晶核的表面积比旋转阴极表面积大很多倍，结垢离子结晶析出的几率大大增加，除垢效率也就增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 水垢 去除 装置 | ||
【主权项】：
一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元；所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；所述槽体的顶端设有出水口；设置于所述槽体的内部的旋转阴极；设置于所述槽体的内部的阳极。
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