[发明专利]一种电化学水垢去除装置有效
| 申请号： | 201410522689.4 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104291451A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 章明歅;章俊杰 | 申请（专利权）人： | 章明歅;章俊杰 |
| 主分类号： | C02F5/00 | 分类号： | C02F5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 100192 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元，所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；设置于槽体的内部的隔膜；隔膜将槽体分为阴极室和阳极室；设置于所述阴极室的内部的阴极；设置于所述阳极室的内部的阳极；所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。在本申请提供的电化学水垢去除装置中的隔膜使得阳极电化学产物和阴极电化学产物之间没有相互干扰，阴极室中生成含有大量晶核的阴极液，大量的晶核为溶液中的结垢离子提供了超大的晶体生长表面和晶体活性生长点；由于大量微小晶核的表面积比阴极表面积大很多倍，结垢离子结晶析出的机率大大增加，除垢效率也就增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 水垢 去除 装置 | ||
【主权项】：
一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理水垢晶核生成单元，所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；设置于所述槽体的内部的隔膜；所述隔膜将槽体分为阴极室和阳极室；设置于所述阴极室的内部的阴极；设置于所述阳极室的内部的阳极；所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。
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