[发明专利]一种大豆种植高产的新方法在审

专利信息
申请号: 201410523059.9 申请日: 2014-10-08
公开(公告)号: CN105557222A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 赵丽 申请(专利权)人: 赵丽
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266232 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种大豆种植高产的新方法,其特点是包括:选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种、深松、深施种肥,喷施叶面肥、播法选择、播种密度、化学除草等过程,它可以实现大豆增产的成果。
搜索关键词: 一种 大豆 种植 高产 新方法
【主权项】:
一种大豆种植高产的新方法,其特殊之处是包括以下过程:选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种,深松,深松可以增加土壤的库容量,改善土壤的水分存储能力,满足大豆对水分的需求,深施种肥,喷施叶面肥,采用划刀式施肥装置,分层深施于种下5厘米和12厘米处,一般每亩施尿素3千克、磷酸二铵15千克、氯化钾7千克,在氮磷肥充足的条件下注意增加钾肥用量,播法选择,在土壤状况良好、生产水平较高的地区,可采取平作窄行密植播法;在低洼地块和雨水较多地区可采用大垄窄行密植播法;在一般生产条件和采用小型拖拉机作业的地区,可采用小垄窄行密植或垄上三行窄沟密植播法,平作窄行密植一般采用双条精量点播,平均行距17~30厘米、株距11~12厘米、播深3~5厘米,用大中机械一次完成作业,播种密度,一般品种适宜密度为每亩2.6万~2.8万株,半矮秆品种可增加到3.3万~4.0万株,整地质量好、肥力水平高的地块,要降低播量10%;整地质量差、肥力水平低的地块,要增加播量10%,化学除草,窄行密植栽培法可在秋季、春季播前或播后苗前用化学除草剂处理土壤,秋季土壤处理可结合秋施肥进行,可选用速收、乙草胺、金都尔、宝收等除草剂。
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