[发明专利]用于定影装置的构件、定影装置和图像形成设备有效
| 申请号： | 201410528532.2 | 申请日： | 2014-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN104932230B | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 谷冈由康 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/20 | 分类号： | G03G15/20;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 吕俊刚;刘久亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于定影装置的构件、定影装置和图像形成设备。一种用于定影装置的构件包括具有大致圆筒形状的基底构件和覆盖构件，用该覆盖构件覆盖所述基底构件的外周面，所述覆盖构件包括第一剥离层和第二剥离层，所述第一剥离层含有第一氟碳树脂，所述第二剥离层含有第二氟碳树脂，并且叠置在所述第一剥离层的外周面中的除了所述第一剥离层的所述外周面的沿宽度方向的端部之外的区域上。在该覆盖构件中，在用于定影装置的构件的沿宽度方向的端部露出的第一剥离层的外周面的动摩擦系数大于第二剥离层的外周面的动摩擦系数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 定影 装置 构件 图像 形成 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于定影装置的构件，该用于定影装置的构件包括：基底构件，该基底构件具有大致圆筒形状；以及覆盖构件，用该覆盖构件覆盖所述基底构件的外周面，所述覆盖构件包括第一剥离层和第二剥离层，所述第一剥离层含有第一氟碳树脂，所述第二剥离层含有第二氟碳树脂，并且叠置在所述第一剥离层的外周面中的除了所述第一剥离层的所述外周面的沿宽度方向的端部之外的区域上，其中，在所述覆盖构件中，在用于定影装置的构件的沿所述宽度方向的两端部露出的所述第一剥离层的所述外周面的动摩擦系数大于所述第二剥离层的外周面的动摩擦系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社，未经富士施乐株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410528532.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子设备
- 下一篇：电子束光刻对准标记在芯片上的布局
