[发明专利]一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜

摘要

本发明涉及一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备及方法，所述设备包括一蚀刻发生装置，所述蚀刻发生装置包括一夹持部和一液体盛装部，夹持部将潜径迹膜夹持并固定在盛有蚀刻液的液体盛装部，利用一超声波发生器，提供间歇超声波作用，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，利用一紫外灯，对潜径迹膜辐照敏化，加快蚀刻速率。本发明实现薄膜均匀蚀刻；用超声波将蚀刻产物剥离，使蚀刻液与潜径迹充分接触，从而加速径迹蚀刻速率，采用间歇超声波作用，避免薄膜因为超声波长时间震动而破裂的危险；此种径迹纳米孔膜具有优良的抗反射性能，由于其面积大，孔密度高，使其应用范围更加广泛。

主权项

一种用于制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备，其特征在于，包括：一蚀刻发生装置，用以盛装蚀刻液并将潜径迹膜固定在所述蚀刻液中进行蚀刻，使所述潜径迹膜均匀蚀刻；一超声波发生器，用以将滞留在所述潜径迹膜的径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，加快蚀刻速率；一紫外灯，用以辐照敏化所述潜径迹膜，加快蚀刻速率。