[发明专利]一种掺钠铜铟镓硒太阳电池器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410532539.1 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN104393089A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 薛玉明;尹富红;刘君;宋殿友;朱亚东;李鹏海;潘洪刚;冯少君;张嘉伟;刘浩;高林;航伟;乔在祥;冯永旺;刘贵川;闫兵;靳忠杰;胡盛开 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H01L31/073 分类号: H01L31/073;H01L31/032;H01L31/048;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种基于聚酰亚胺膜-苏打玻璃复合衬底的掺钠铜铟镓硒太阳电池器件,其特征在于:衬底由苏打玻璃及生长于其表面的聚酰亚胺膜构成,在该复合衬底表面制备铜铟镓硒太阳电池。本发明的优点是:该种基于聚酰亚胺膜-苏打玻璃复合衬底的铜铟镓硒薄膜附着性优秀,结晶质量好,晶粒粗大,缺陷少;在完整的铜铟镓硒太阳电池制备完成后,将其与苏打玻璃分离,形成以聚酰亚胺膜为衬底的柔性铜铟镓硒太阳电池,实现以钢性衬底制备柔性电池;其制备方法简单、易于实施,有利于大规模的推广应用,尤其在太空及特殊场合中具有极其重要的应用前景。
搜索关键词: 一种 掺钠铜铟镓硒 太阳电池 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于聚酰亚胺膜‑苏打玻璃复合衬底的掺钠铜铟镓硒太阳电池,其特征在于:衬底由苏打玻璃及生长于其表面的聚酰亚胺膜构成,其中苏打玻璃的厚度为1.5‑2mm,聚酰亚胺膜厚度为25‑30μm;钼背接触层生长于聚酰亚胺膜‑苏打玻璃复合衬底之上,分为高阻层和低阻层,其中高阻层的厚度为80‑120nm,低阻层的厚度为600‑700nm;铜铟镓硒吸收层生长于钼薄膜之上,化学分子式为CuIn1‑xGaxSe2,式中x为0.25‑0.35,导电类型为p型,厚度为1.5‑2μm;氟化钠预制层薄膜生长于铜铟镓硒吸收层之上,化学分子式为NaF,厚度为20‑30nm;硫化镉缓冲层生长于铜铟镓硒吸收层表面,化学分子式为CdS,导电类型为n型,厚度为45‑50nm;透明窗口层生长于硫化镉缓冲层之上,分为高阻本征氧化锌薄膜和低阻氧化锌铝薄膜,导电类型为n型,其中本征氧化锌薄膜的厚度为50‑100nm,氧化锌铝薄膜的厚度为0.4‑0.6μm;铝上电极薄膜生长于透明窗口层之上,其后为为0.8‑1.5μm。
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