[发明专利]一种基于波导结构的新型光隔离器在审
| 申请号： | 201410532649.8 | 申请日： | 2014-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN104280823A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 李洵;朱仲书 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B6/26 | 分类号： | G02B6/26;G02B6/122 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 王守仁 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明是一种基于光波导结构的新型光隔离器，其无需采用任何磁光材料，由衬底(1)和位于该衬底(1)之上的两部分波导层构成，其中：第一波导(2)为对波导层上通过第一次刻蚀形成的直波导进行第二次刻蚀时，保护一部分不被刻蚀而形成的有一段凸起的波导；第二波导(3)为二次刻蚀时不作保护而得到的普通直波导。本发明用以实现对某一特定波长的TE或TM偏振光进行隔离的功能，基于波导结构实现，与半导体工艺兼容，易于同其他光电子器件(如半导体激光器等)进行单片集成。本发明不依赖于特定的(例磁光)材料特性，因而可以在任意光波导材料上(例各种III-V族化合物半导体，硅基半导体，及SiO2等)实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 波导 结构 新型 隔离器 | ||
【主权项】：
一种基于光波导结构的新型光隔离器，其特征是无需采用任何磁光材料，由衬底(1)和位于该衬底(1)之上的两部分波导层构成，其中：第一波导(2)为对波导层上通过第一次刻蚀形成的直波导进行第二次刻蚀时，保护一部分不被刻蚀而形成的有一段凸起的波导；第二波导(3)为二次刻蚀时不作保护而得到的普通直波导。
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