[发明专利]陶瓷釉下影像工艺

摘要

本发明公布了一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：先制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；再图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；然后上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；最后装炉烧制；本发明通过单独在浮雕影像处施以上等熔块粉末，烧制后的陶瓷釉下影像处表面光滑，图案晶莹剔透，不仅满足美观需求，而且提高了实用性，使瓷面更易于清洗，不能淤积污垢。

主权项

1.一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：a、制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；b、图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；c、上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；d、烧制，将坯体放入窑炉按下面温度曲线烧制：升温第一阶段2小时，温度从室温匀速升温至400℃；升温第二阶段2小时，温度从400℃匀速升温至900℃；升温第三阶段1.5小时，温度从900℃匀速升温至1100℃；升温第四阶段2.5小时，温度从1100℃匀速升温至1310℃；保温阶段1至3小时，温度范围1310℃至1300℃；然后降温第一阶段2小时，温度匀速降至1100℃；降温第二阶段2.5小时，温度匀速降至900℃；降温第三阶段2.5小时，温度匀速降至500℃；降温第四阶段3小时，温度匀速降至室温；出炉烧成,所述工艺步骤c中图案处在均匀涂撒上等熔块粉末之前上一次与图案周围的坯体同样的釉料。