[发明专利]一种液体涂布装置在审
| 申请号： | 201410538091.4 | 申请日： | 2014-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN105487353A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 尹宁 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;B05C5/02;B05C11/06 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种用于涂布显影液的液体涂布装置，包括喷嘴盖及喷嘴主体，其中喷嘴盖与喷嘴主体密封连接，中间形成密闭腔室，所述喷嘴盖上设有进液口，所述喷嘴主体上开有螺旋状的流道，该流道内设有排出显影液的出液孔；由所述进液口流入的显影液流至所述流道中，并从所述出液孔排出，同时涂布于整个晶圆的表面；所述喷嘴盖上设有排气孔。本发明的液体涂布装置具有螺旋状的流道和出液孔，显影液通过螺旋状的流道从出液孔流出，螺旋状分布的出液孔可将显影液同时涂布在整个晶圆表面，使晶圆表面显影均匀，保证了产品晶圆良率；本发明的喷嘴盖上具有排气孔，避免排气不畅造成的显影液不均匀和气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液体 装置 | ||
【主权项】：
一种液体涂布装置，其特征在于：包括喷嘴盖(1)及喷嘴主体(4)，其中喷嘴盖(1)与喷嘴主体(4)密封连接，中间形成密闭腔室(6)，所述喷嘴盖(1)上设有进液口(2)，所述喷嘴主体(4)上开有螺旋状的流道(7)，该流道(7)内设有排出显影液的出液孔(8)；由所述进液口(2)流入的显影液流至所述流道(7)中，并从所述出液孔(8)排出，同时涂布于整个晶圆的表面。
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