[发明专利]等离子涂敷设备的喷枪的清洁方法以及等离子涂敷设备

摘要

等离子涂敷设备的喷枪的清洁方法以及等离子涂敷设备。本发明涉及一种清洁等离子涂敷设备的喷枪的方法。本发明基于清洁等离子涂敷设备的喷枪(13)的方法，其中在涂敷工艺中断的过程中，喷枪(13)被从清洁喷嘴(28)排出的清洁剂(30)冲击，这意味着在没有涂层施加到工件上的阶段期间。用这种方法，附着在喷枪(13)上的喷涂材料颗粒(32)被移除。根据本发明，清洁剂(30)以这样的方式设计：其在离开清洁喷嘴(28)之后变成气态。清洁剂例如是干冰、液氮、液氧或液体二氧化碳。

主权项

1.一种清洁等离子涂敷设备的喷枪（13，113）的方法，其中在涂敷工艺中断期间，喷枪（13，113）被从清洁喷嘴（28，128）排出的清洁剂（30，130）冲击，同时维持等离子，其中附着在喷枪（13，113）处的喷涂材料颗粒（32）由此被移除，其中，清洁剂（30，130）以这样的方式设计：其在离开清洁喷嘴（28，128）之后变成气态，其特征在于，将所述清洁剂冲击在所述喷枪上，使得等离子不被直接冲击。