[发明专利]一种反应等离子熔覆原位合成TiN涂层有效
| 申请号： | 201410539639.7 | 申请日： | 2014-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN104372335B | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 邢志国;王海斗;崔华威;金国 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军装甲兵工程学院 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10 |
| 代理公司： | 11510 北京华圣典睿知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈国伟 |
| 地址： | 100072*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反应等离子熔覆原位合成TiN复合涂层，该涂层相成分主要包括TiN、α‑Fe、Ti相，无氧化物相；涂层较致密，无孔隙，涂层内TiN弥散分布，涂层与基体处无裂纹等微观缺陷，与基体呈冶金结合。本发明利用反应等离子熔覆技术原位合成TiN涂层可以在短时间内制备出较厚的涂层，大大提高了粉末的沉积效率，节约了成本；涂层内孔隙率低，涂层质量好，涂层与基体可以形成冶金结合，大大提高了涂层的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 等离子 原位 合成 tin 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种反应等离子熔覆原位合成TiN复合涂层，该涂层相成分主要包括TiN、α-Fe、Ti相，无氧化物相：涂层较致密，无孔隙，涂层内TiN弥散分布，涂层与基体处无裂纹微观缺陷，与基体呈冶金结合；/n所述涂层是由Ti粉和送粉气N
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