[发明专利]一种多分散盘双轴立式透平研磨分散机在审
申请号: | 201410550675.3 | 申请日: | 2014-10-09 |
公开(公告)号: | CN104475197A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 夏必忠;陈以威;任世远;陈波 | 申请(专利权)人: | 苏州可纳粉体技术有限公司;清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | B02C17/10 | 分类号: | B02C17/10;B02C17/24;B01F7/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏省苏州工业园区金*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明多分散盘双轴立式透平研磨分散机,包括壳体和研磨分散分离装置,所述研磨分散分离装置包括分别位于壳体上下部的分离机构和分散机构,该分离机构包括与中空的分离透平主轴连接的分离透平,所述分散机构包括与分散透平主轴连接的行星架和至少两个设于行星架上的分散透平,该分散透平通过行星轮传动机构与分散透平主轴传动连接。由于研磨腔内布置多个研磨分散透平,分散主轴通过行星轮系带动至少两个分散透平绕分散主轴做行星运动,使得研磨腔内的流体运动更加剧烈,研磨更加充分,可大幅度提高研磨效率。同时,分散主轴、分离主轴独立驱动的结构可使分散主轴、分离主轴分别设定不同的转速。顶升装置的设计使得对研磨腔的清洗更加方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 分散 盘双轴 立式 透平 研磨 | ||
【主权项】:
一种多分散盘双轴立式透平研磨分散机,包括壳体和与驱动电机传动连接且位于壳体内部的研磨分散分离装置,其特征在于:所述研磨分散分离装置包括分别位于壳体上下部的分离机构和分散机构,其中所述分离机构包括与中空的分离透平主轴连接的分离透平,所述分散机构包括与分散透平主轴连接的行星架和至少两个设于行星架上的分散透平,该分散透平与分散透平主轴之间设有使分散透平绕分散透平主轴作行星运动的行星轮传动机构。
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