[发明专利]一种衬底可重复利用的外延结构制作方法有效
| 申请号： | 201410551495.7 | 申请日： | 2014-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN104332542A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;杨凯;蔡建九;白继锋;刘碧霞 | 申请（专利权）人： | 厦门乾照光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 廖吉保;唐绍烈 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种衬底可重复利用的外延结构制作方法，包括以下步骤：一、在外延衬底表面由下自上依次形成缓冲层、衬底保护层、外延剥离层、外延保护层及外延发光结构；二、对外延剥离层进行氧化，形成氧化剥离层；三，在外延发光结构的第二型电流扩展层上蒸镀金属反射层；将金属反射层与基板键合；四、采用强碱腐蚀氧化剥离层，使用带旋转功能的腐蚀装置腐蚀氧化剥离层，直至外延发光结构与外延衬底剥离，得到可重复利用的外延衬底。本发明可以解决剥离二极管而导致外延层破损问题，且可重复利用衬底，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衬底 重复 利用 外延 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
一种衬底可重复利用的大功率发光二极管外延结构制作方法，其特征在于：包括以下步骤：一、在外延衬底表面由下至上依次形成缓冲层、衬底保护层、外延剥离层、外延保护层及外延发光结构；二、对外延剥离层进行氧化，形成氧化剥离层；三，在外延发光结构的第二型电流扩展层上蒸镀金属反射层；将金属反射层与基板键合；四、将基板粘黏在腐蚀装置的托片平台上，托片平台带旋转功能，采用强碱溶液在托盘旋转的条件下腐蚀氧化剥离层，直至外延发光结构与外延衬底剥离，得到可重复利用的外延衬底。
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