[发明专利]一种水平电化学沉积金属的方法有效
申请号: | 201410557444.5 | 申请日: | 2014-10-20 |
公开(公告)号: | CN105590987B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 季静佳;覃榆森;朱凡 | 申请(专利权)人: | 苏州易益新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C25D5/08;C25D7/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215104 江苏省苏州市吴中经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种在薄片基板上实施电化学沉积金属的方法。本发明所公开的在薄片基板上实施电化学沉积金属的方法是把电化学沉积金属工艺中的金属阳极置于电化学沉积金属工艺中的电解质溶液液位上方,电化学沉积金属工艺中电解质溶液在接触金属阳极后自上而下的流到薄片基板的上表面。上金属阳极在正电势的作用下发生氧化反应,失去电子生成金属离子后随电解质溶液流下到薄片基板的上表面。电解质溶液中的金属离子在薄片基板上的阴极获得电子,生成金属并沉积在薄片基板的阴极表面。 | ||
搜索关键词: | 一种 水平 电化学 沉积 金属 方法 | ||
【主权项】:
一种对薄片基板的阴极表面实施水平电化学沉积金属的方法,其特征在于,所述的水平电化学沉积金属的方法是使电解质溶液在接触上金属阳极后向下连续流向待电化学沉积金属的薄片基板的上阴极表面;电解质溶液浸没下金属阳极后与待电化学沉积金属的薄片基板的下阴极表面接触,或者电解质溶液接触下金属阳极后连续向上喷向待电化学沉积金属的薄片基板的下阴极表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的