[发明专利]一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置

摘要

本发明提供一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。该制备方法包括在玻璃基板上形成薄膜晶体管和信号线；在对应薄膜晶体管和信号线的上方形成有机绝缘层；在有机绝缘层上方形成钝化绝缘层，在形成钝化绝缘层之前，还包括对形成有机绝缘层的玻璃基板进行预加热处理。该制备方法通过对形成有机绝缘层的玻璃基板进行预加热处理，且相比于现有技术，去除了对形成有机绝缘层的玻璃基板的氮气等离子体处理和氮气流处理，使形成有机绝缘层的玻璃基板的界面态特性增强，从而使钝化绝缘层与形成有机绝缘层的玻璃基板之间的粘附性增强，进而能够防止形成在有机绝缘层上方的钝化绝缘层发生脱落，保证了阵列基板的品质。

主权项

一种阵列基板的制备方法，包括：在玻璃基板上形成薄膜晶体管和信号线；在对应所述薄膜晶体管和所述信号线的上方形成有机绝缘层；在所述有机绝缘层上方形成钝化绝缘层，其特征在于，所述钝化绝缘层包括第一钝化层和/或第二钝化层，在形成所述第一钝化层或所述第二钝化层之前，还包括对形成所述有机绝缘层的所述玻璃基板进行预加热处理，其中：预加热处理的温度范围为230℃‑300℃，预加热处理的时长范围为15秒‑25秒。