[发明专利]用于相变存储材料的氨基嘧啶Ge(Ⅱ)前质体及其制备方法有效
申请号: | 201410567814.3 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN104341355A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 丁玉强;王权;王大伟;苗红艳 | 申请(专利权)人: | 江南大学 |
主分类号: | C07D239/42 | 分类号: | C07D239/42;C23C16/18 |
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地址: | 214122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于相变存储材料的氨基嘧啶Ge(II)前质体,该前质体以氨基嘧啶及其衍生物为配体,依以下方法制备:(1)将氨基密啶及其衍生物溶解在反应溶剂中,-78~0℃搅拌条件下加入烷基锂溶液,氨基嘧啶或其衍生物与烷基锂摩尔比1.0∶1.0~1.2,恢复室温继续搅拌至固体产生,过滤得到锂盐;(2)将步骤(1)得到的锂盐与甲苯混合,-78~0℃条件下以锂盐与金属锗摩尔比2.0∶1.0~1.2滴加到二氯化锗的甲苯溶液中,升温至室温;(3)将步骤(2)得到的混合物过滤浓缩,滤渣用二氯甲烷提取,收集滤液,-50~0℃低温结晶,得到所述的氨基嘧啶Ge(II)前质体。本发明合成方法简单,制备的前质体热稳定性高,挥发性好,成膜性能优良,是制备相变存储材料潜在的重要前质体。 | ||
搜索关键词: | 用于 相变 存储 材料 氨基 嘧啶 ge 质体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于相变存储材料的氨基嘧啶Ge(Ⅱ)前质体,其特征在于,具有以下结构:其中R1,R2,R3,R4表示氢原子(R1除外)、C1~C6烷基、C2~C5链烯基、C3~C10环烷基、C6~C10芳基或—Si(R5)3,其中R5为C1~C6烷基;R1,R2,R3,R4相同或相异。
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