[发明专利]一种高陡岩质边坡植被种植方法有效

专利信息
申请号: 201410571514.2 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN104255280A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 陈洪凯;杨铭;吴帆 申请(专利权)人: 陈洪凯;杨铭;吴帆
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01G9/02;E02D17/20
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 王玉芝
地址: 400074 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种高陡岩质边坡植被种植方法,该方法包括以下步骤:步骤一,在高陡岩质边坡坡面凿若干种植穴;步骤二,在所述种植穴的底部钻若干根系孔;步骤三,根系孔钻完后,用水浇入种植穴和根系孔中,待积水消失后用黏土与水混合搅拌制成泥浆,在根系孔中灌满泥浆,并在种植穴的内壁涂抹一层泥浆;步骤四,在所述种植穴中,从底部开始由下往上依次填充储水层、营养土层、种子层和防蒸发层。采用本发明的高陡岩质边坡植被种植方法,解决了植被水分问题,增加了植被的存活率,降低了维护成本。
搜索关键词: 一种 高陡岩质边坡 植被 种植 方法
【主权项】:
一种高陡岩质边坡植被种植方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,在高陡岩质边坡坡面凿若干种植穴;步骤二,在所述种植穴的底部钻若干根系孔;步骤三,根系孔钻完后,用水浇入种植穴和根系孔中,待积水消失后用黏土与水混合搅拌制成泥浆,在根系孔中灌满泥浆,并在种植穴的内壁涂抹一层泥浆;步骤四,在所述种植穴中,从底部开始由下往上依次填充储水层、营养土层、种子层和防蒸发层。
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