[发明专利]用于选择性催化还原系统的还原剂输送单元的排放系统在审

专利信息
申请号: 201410574581.X 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104564256A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: W.N.范伍伦 申请(专利权)人: 大陆汽车系统公司
主分类号: F01N3/20 分类号: F01N3/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 崔幼平;李婷
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用于选择性催化还原系统的还原剂输送单元的排放系统。一种排放程序,其是喷射器的一部分,所述喷射器可以用作还原剂输送单元(RDU)的一部分,其中RDU是用于向排气系统中喷射柴油排气流体的选择性催化还原系统的一部分,以控制排气排放。RDU将还原剂载体输送至发动机排气系统。排放过程包括控制策略,其用以改善排放循环的质量(即,增加排出的流体量)。调节排放事件的序列,以便在流体供应线路和喷射器中生成强大的真空--这通过增加穿过喷射器的初始流量而增强排放的效率。然而,在打开喷射器时,流体路径内的压力增加至稍低于喷射器外的环境压力的水平,因此气体流量被大幅降低。
搜索关键词: 用于 选择性 催化 还原 系统 还原剂 输送 单元 排放
【主权项】:
 一种设备,包括:用于排放喷射器的系统,其包括: 具有多个操作模式的泵送机构; 与所述泵送机构处于流体连通的喷射器;和 作为所述喷射器的一部分的阀部,所述阀部具有打开位置和关闭位置; 其中,所述泵送机构设置在第一操作模式,以便所述泵送机构将加压流体引导至所述喷射器,并且所述泵送机构设置在第二操作模式,以便所述泵送机构在所述阀部处于所述关闭位置时生成真空,并且所述泵送机构在所述阀部处于所述打开位置时引导流体离开所述喷射器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大陆汽车系统公司,未经大陆汽车系统公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410574581.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top