[发明专利]用于选择性催化还原系统的还原剂输送单元的排放系统在审
申请号: | 201410574581.X | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104564256A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | W.N.范伍伦 | 申请(专利权)人: | 大陆汽车系统公司 |
主分类号: | F01N3/20 | 分类号: | F01N3/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 崔幼平;李婷 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于选择性催化还原系统的还原剂输送单元的排放系统。一种排放程序,其是喷射器的一部分,所述喷射器可以用作还原剂输送单元(RDU)的一部分,其中RDU是用于向排气系统中喷射柴油排气流体的选择性催化还原系统的一部分,以控制排气排放。RDU将还原剂载体输送至发动机排气系统。排放过程包括控制策略,其用以改善排放循环的质量(即,增加排出的流体量)。调节排放事件的序列,以便在流体供应线路和喷射器中生成强大的真空--这通过增加穿过喷射器的初始流量而增强排放的效率。然而,在打开喷射器时,流体路径内的压力增加至稍低于喷射器外的环境压力的水平,因此气体流量被大幅降低。 | ||
搜索关键词: | 用于 选择性 催化 还原 系统 还原剂 输送 单元 排放 | ||
【主权项】:
一种设备,包括:用于排放喷射器的系统,其包括: 具有多个操作模式的泵送机构; 与所述泵送机构处于流体连通的喷射器;和 作为所述喷射器的一部分的阀部,所述阀部具有打开位置和关闭位置; 其中,所述泵送机构设置在第一操作模式,以便所述泵送机构将加压流体引导至所述喷射器,并且所述泵送机构设置在第二操作模式,以便所述泵送机构在所述阀部处于所述关闭位置时生成真空,并且所述泵送机构在所述阀部处于所述打开位置时引导流体离开所述喷射器。
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