[发明专利]Si(111)材料应力沿表面法线分布的信息的测量方法有效

专利信息
申请号: 201410578904.2 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104316552A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 张金风;聂玉虎;闫冉;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱卫星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种Si(111)材料中应力沿表面法线分布信息的测量方法,主要解决现有技术不能用x射线衍射仪获取应力沿表面法线分布信息的问题。其技术步骤是:将Si(111)材料水平放置于x射线衍射仪载物台;依次对该Si(111)材料中的(111)和(220)晶面进行对光;以不小于50nm的步长减小x射线透射深度,并在各透射深度下获取(220)晶面的布拉格角;将测得的一组布拉格角代入布拉格方程,得到一组(220)晶面的面间距;根据一组面间距计算Si(111)材料应力沿表面法线分布的信息。本发明测试成本低,对被测材料无损伤,能获取一组应力沿表面法线的分布信息。
搜索关键词: si 111 材料 应力 表面 法线 分布 信息 测量方法
【主权项】:
一种Si(111)材料应力沿表面法线分布信息的测量方法,采用x射线衍射仪进行测试,该衍射仪设有载物台,该载物台设有三个转动轴,分别为ω轴、χ轴和φ轴,其中,ω轴平行于载物台,且垂直于x射线入射光束与x射线探测器组成的平面,χ轴平行于载物台,且与ω轴垂直,φ轴垂直于载物台;探测器可绕与ω轴重合的2θ轴旋转,其特征在于,测试步骤包括如下:(1)将Si(111)材料水平放置于x射线衍射仪的载物台,依次对Si(111)材料中的(111)晶面和(220)晶面进行对光;(2)同时旋转载物台的ω轴、χ轴和φ轴,使该Si(111)材料以(220)晶面法线为轴单方向旋转,并以不小于50nm的步长逐渐减小x射线透射深度,每改变一次透射深度就对(220)晶面进行一次三轴晶2θ‑ω扫描,获取与该透射深度所对应的(220)晶面的布拉格角θ。在所有x射线透射深度下都进行扫描后,最后得到一组(220)晶面的布拉格角θi,i=1,2,…,N,N表示x射线不同透射深度的个数;(3)将测得的一组布拉格角θi代入以下布拉格方程,得到一组(220)晶面的面间距di<mrow><msub><mi>d</mi><mi>i</mi></msub><mo>=</mo><mfrac><mi>n&lambda;</mi><mrow><mn>2</mn><mi>sin</mi><msub><mi>&theta;</mi><mi>i</mi></msub></mrow></mfrac><mo>,</mo><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1,2</mn><mo>,</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>,</mo><mi>N</mi></mrow>其中,λ为x射线的波长,n为衍射级数;(4)将计算得到的一组面间距di代入以下方程组,得到Si(111)材料沿表面法线分布的(111)面内应力分量εi//和[111]轴方向应力分量εi<mrow><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mrow><mo>/</mo><mo>/</mo></mrow></msup><mo>=</mo><mfrac><mrow><mfrac><mrow><msub><mi>d</mi><mi>i</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>d</mi><mi>r</mi></msub></mrow><msub><mi>d</mi><mi>r</mi></msub></mfrac><mrow><mo>(</mo><msup><mi>h</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>k</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>l</mi><mn>2</mn></msup><mo>)</mo></mrow></mrow><mrow><mrow><mo>(</mo><msup><mi>h</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>k</mi><mn>2</mn></msup><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><mfrac><msub><mrow><mn>2</mn><mi>v</mi></mrow><mi>Si</mi></msub><mrow><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>v</mi><mi>Si</mi></msub></mrow></mfrac><msup><mi>l</mi><mn>2</mn></msup></mrow></mfrac><mo>,</mo><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1,2</mn><mo>,</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>,</mo><mi>N</mi></mrow><mrow><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mo>&perp;</mo></msup><mo>=</mo><mo>-</mo><mfrac><msub><mrow><mn>2</mn><mi>v</mi></mrow><mi>Si</mi></msub><mrow><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>v</mi><mi>Si</mi></msub></mrow></mfrac><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mrow><mo>/</mo><mo>/</mo></mrow></msup></mrow>其中,dr为所参考的(220)晶面的面间距,h、k、l为(220)晶面的米勒指数,νSi为Si(111)材料的泊松比,取值为0.278。
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