[发明专利]光学装置有效
| 申请号： | 201410579585.7 | 申请日： | 2014-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN104570203B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 陈书履;那允中 | 申请（专利权）人： | 光引研创股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;李岩 |
| 地址： | 中国台湾台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光学装置，包含一波导区可沿着第一方向传导光；一第一反射区，可反射入射光形成反射光；一干涉区，位于该波导区及该反射区间，并包含至少一部分由入射光及反射光所形成的干涉光；一光栅区，光耦合至一耦合区，该耦合区包含至少一部分干涉光；其中至少一部分的干涉光可透过该光栅区耦合至与第一方向不同的第二方向。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉光 光学装置 波导区 反射光 光栅区 入射光 耦合区 反射 耦合 反射区 干涉区 光耦合 可透过 传导 | ||
【主权项】：
1.一光学装置，其特征在于，包含:一波导区，沿着一第一方向传导光；一反射区，可反射入射光形成反射光；一干涉区，位于该波导区及该反射区之间，并包含至少一部分由入射光及反射光所形成的干涉光；一光栅区，包含在一区域上形成的光栅，该区域包含至少一部份干涉光，该光栅可将至少一部分的干涉光耦合至一第二方向，该第二方向不同于该第一方向；其中，该光栅区的光栅周期和该干涉区内干涉光的驻波干涉周期大致上匹配。
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