[发明专利]含氟三元环化合物、其制备方法及氟烷基锍盐的制备方法

摘要

本发明公开了一种如式V‑a、式V‑b或式V‑c所示的含氟三元环化合物及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：在有机溶剂中，将如式III’所示的氟烷基硫叶立德与如式IV‑a、式IV‑b或式IV‑c所示的双键化合物进行成环反应，相应的制得如式V‑a、式V‑b或式V‑c所示的含氟三元环化合物。本发明还公开了一种如式III或如式IV所示的氟烷基锍盐的制备方法，其包括如下步骤：溶剂或无溶剂条件下，将如式I所示的硫醚与如式II所示的磺酸氟烷基酯或式II’所示的化合物进行亲核取代反应，即可。本发明的制备方法操作简单，原料易得，反应时间短，产物收率高、纯度高，条件温和，后处理更简便，易于工业化。

主权项

1.一种如式V‑a、式V‑b或式V‑c所示的含氟三元环化合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在有机溶剂中，将如式III’所示的氟烷基硫叶立德与如式IV‑a、式IV‑b或式IV‑c所示的双键化合物进行如下式所示的成环反应，相应的制得如式V‑a、式V‑b或式V‑c所示的含氟三元环化合物；其中，所述的R1和R2各自独立的为取代或未取代的C1～C6烷基；或者取代或未取代的C6～C12芳基；或者，所述的R1和R2是连接在一起的，它们共同组成取代或未取代的‑(CH2)n‑，其中n为2～12中任一整数，即R1和R2共同组成取代或未取代的C2～C12亚烷基且R1和R2及它们所连接的硫原子一起连接成环；所述的取代为被C1～C6烷基、卤素和羟基中的一种或多种所取代；所述的R4为H或C1～C6烷基；所述的Rf为取代或未取代的含氟甲基，所述的取代为被C1～C6烷基所取代；所述的R5为Ar1‑(C＝O)‑；所述的Ar1为取代或未取代的苯基、取代或未取代的萘基，或取代或未取代的呋喃基；所述的取代为被苯基、卤素、C1～C3烷氧基和硝基中的一种或多种所取代；当所述的取代为多个位点的取代时，所述的取代中的取代基为相同或不同；所述的R5’为Ar2；所述的Ar2为取代或未取代的苯基，或取代或未取代的吡啶基；所述的取代为被氰基、硝基、甲砜基、卤素、C1～C3烷基、C1～C3烷氧基和卤素取代的C1～C3烷基中的一种或多种所取代；当所述的取代为多个位点的取代时，所述的取代中的取代基为相同或不同；所述的R^5”为或Ar⁴；所述的Ar³为取代或未取代的苯基；所述的R¹⁰为H或卤素；所述的Ar⁴为取代或未取代的C₆～C₁₂芳基；所述的取代为被氰基、硝基、卤素、C₁～C₃烷基、C₁～C₃烷氧基和卤素取代的C₁～C₃烷基中的一种或多种所取代；当所述的取代为多个位点的取代时，所述的取代中的取代基为相同或不同；所述的R6、R6’、R6”、R7和R8各自独立的为H或C1～C6烷基；所述的R9为取代或未取代的C1～C6酰基、取代或未取代的C1～C6烷基‑砜基‑、取代或未取代的C6～C12芳基‑砜基‑或取代或未取代的C6～C12芳基‑甲酰基‑，所述的取代为被C1～C3烷基、卤素和羟基中的一种或多种所取代。