[发明专利]光场采集控制方法和装置有效
申请号: | 201410584615.3 | 申请日: | 2014-10-27 |
公开(公告)号: | CN104486537B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 杜琳;周梁 | 申请(专利权)人: | 北京智谷技术服务有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 马敬;项京 |
地址: | 100085 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种光场采集控制方法和装置,其中一种光场采集控制方法包括:至少根据光场相机的子透镜阵列中影响第一区成像的至少一子透镜,确定待调节的至少一第一子透镜,所述第一区为待摄场景的局部;确定所述待摄场景的光场图像中经所述第一子透镜采集的光场图像部分的目标重对焦精度;根据所述目标重对焦精度调节所述第一子透镜的光场采集参数;基于调节后的所述光场相机进行所述待摄场景的光场采集。该方案可实现对应所述待摄场景的不同区域的各光场图像部分的重对焦精度呈现差异化分布,更好满足用户的实际应用需求。 | ||
搜索关键词: | 采集 控制 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光场采集控制方法,其特征在于,包括:至少根据光场相机的子透镜阵列中影响第一区成像的至少一子透镜,确定待调节的至少一第一子透镜,所述第一区为待摄场景的局部;确定所述待摄场景的光场图像中经所述第一子透镜采集的光场图像部分的目标重对焦精度,所述目标重对焦精度,表征用户或设备对于所述第一区位于重对焦深度调节范围内的至少局部所对应的光场图像部分的重对焦精度的相对预期;根据所述目标重对焦精度,确定所述第一子透镜对应的图像传感器的目标成像面积;根据所述目标成像面积调节所述第一子透镜的光场采集参数;基于调节后的所述光场相机进行所述待摄场景的光场采集。
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