[发明专利]涂膜形成方法以及定影构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201410584699.0 申请日: 2014-10-27
公开(公告)号: CN104549935A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 阿部胜也;宫原康弘;长谷川悠史 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B05D1/02 分类号: B05D1/02;B05D1/36;B05D3/00;G03G15/20
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 涂膜形成方法以及定影构件的制造方法。一种涂膜形成方法,其包括:从喷嘴将第一液体供给到圆筒状基体以形成第一液体的涂膜,其中,所述方法包括:挤压含第二液体的构件,以在周面上形成第二液体的液膜,并且,第一液体的涂膜的形成包括:将第一液体供给到形成于基体的周面的第二液体的液膜上,以在液体供给单元和第二液体的液膜之间形成第一液体的珠,以及在基体的周向上扩展珠。
搜索关键词: 形成 方法 以及 定影 构件 制造
【主权项】:
一种涂膜形成方法,其在圆筒状或圆柱状的基体的周面上形成涂膜,所述涂膜形成方法包括:第一液体涂膜形成步骤,其包括:在使喷嘴和所述基体在所述基体的轴向上相对移动的同时,从所述喷嘴将第一液体供给到相对于所述喷嘴转动的所述基体的周面,并且在所述基体的周面上形成第一液体涂膜,其特征在于:所述方法包括在所述基体的周面上形成第二液体的液膜的步骤,在将所述第一液体供给到所述基体的周面之前,在使含有所述第二液体的构件与所述基体相对转动且使所述构件和所述基体在所述基体的轴向上相对移动的同时,通过使所述构件挤压在所述基体的周面上,在所述基体的周面上形成所述第二液体的液膜,所述第二液体与所述第一液体相同或具有高的与所述第一液体的亲和性,其中:在所述第一液体涂膜形成步骤中,在所述第二液体的液膜干燥之前,将所述第一液体供给到所述第二液体的液膜上,并且所述第一液体涂膜形成步骤还包括如下步骤:在所述喷嘴和所述第二液体的液膜之间形成所述第一液体的珠,和在所述基体的周向上扩展所述珠。
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