[发明专利]掩模检查装置和方法以及虚拟图产生装置和方法有效
申请号: | 201410584702.9 | 申请日: | 2010-01-29 |
公开(公告)号: | CN104483811B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 赵赞衡;闵卿旭 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;H01L51/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 严芬;宋志强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种掩模检查装置和方法以及虚拟图产生装置和方法。掩模检查装置用于检查以期望图案进行沉积中所用到的具有多个开口的掩模,能够通过掩模的开口检查掩模的缺陷。掩模检查装置包括:检测单元,检测掩模的开口中的每一个的边界线;存储单元,存储待被利用掩模执行沉积的部件的信息;设置单元,利用所存储的待被执行沉积的部件的信息为开口中的每一个设置第一边界线、第二边界线和安全区域,其中第一边界线形成沉积区域的轮廓,第二边界线包围第一边界线,安全区域插入在第一边界线与第二边界线之间;以及控制单元,确定被检测单元检测的掩模的边界线是否不接触第一边界线和第二边界线以及边界线是否在安全区域中。 | ||
搜索关键词: | 检查 装置 方法 以及 虚拟 产生 | ||
【主权项】:
1.一种虚拟图产生装置,用在掩模检查装置中,该虚拟图产生装置用于产生掩模的虚拟图,所述虚拟图产生装置包括:控制单元,根据所述掩模的多个开口的虚拟边界线产生所述虚拟图,并将所述虚拟图与所述掩模的所述多个开口的被检测到的边界线进行比较,其中所述虚拟边界线利用与待被利用所述掩模执行沉积的部件有关的信息来设置,并且其中所述信息包括在待被利用所述掩模执行沉积的所述部件中的沉积区域的位置、形状和尺寸。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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