[发明专利]地下工程模型试验中充填裂隙填筑与监测元件埋设的方法无效

专利信息
申请号: 201410587444.X 申请日: 2014-10-28
公开(公告)号: CN104483446A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 石少帅;吴静;李术才;李利平;王康;许振浩;张乾青;王旌;卜林 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 张勇
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了地下工程模型试验中充填裂隙填筑与监测元件的埋设方法包括:(a)裂隙定位;(b)挖槽;(c)充填物;(d)位移计埋设;(e)内部光纤渗压埋设;(f)断面电阻渗压埋设;(g)电阻应变砖埋设;(h)分层定位;(i)充填裂隙形成。本发明操作方便,系统性强。定位准确,能够有效改善模型试验的试验手段,提高试验结果的可靠性。
搜索关键词: 地下工程 模型 试验 充填 裂隙 监测 元件 埋设 方法
【主权项】:
地下工程模型试验中充填裂隙填筑与监测元件埋设的方法,其特征是,包括以下步骤:步骤一:对充填裂隙的定位;步骤二:挖槽:在裂隙定位处进行挖槽;步骤三:位移计埋设:当开挖到设定深度后,将多点位移计放入到已经开挖好的槽内;步骤四:光纤渗压元件埋设:进行裂隙定位并埋设光纤渗压元件;步骤五:断面电阻渗压元件埋设:进行裂隙定位并在裂隙周壁外部与监测断面之间埋设电阻式渗压元件;步骤六:电阻应变砖元件埋设:进行裂隙定位并选择裂隙的四个边角处作为监测点埋设电阻应变砖元件,埋设元件时根据监测点的位置逐层进行埋设监测点,埋设监测点过程中,需重新定位,分层压实;步骤七:分层定位:随着模型体的填筑厚度增加,继续逐层对裂隙的展布与延伸进行定位,并在模型体填筑过程中,对裂隙进行保护,最后充填裂隙形成。
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