[发明专利]一种在基材表面制备DLC薄膜的方法

摘要

一种在基材表面制备DLC薄膜的方法，它涉及一种DLC薄膜材料的制备方法。本发明目的是要解决现有方法制备的纯DLC薄膜具有较大的残余应力，且表面能高、表现出亲水性的问题。方法：一、表面处理；二、离子刻蚀清洗；三、制备金属过渡层和金属氮化物过渡层；四、制备DLC应力释放层；五、制备DLC疏水层，得到DLC疏水层-DLC应力释放层-金属氮化物过渡层-金属过渡层-基材，即完成在基材表面制备DLC薄膜；步骤五得到的DLC薄膜从下至上依次由金属过渡层、金属氮化物过渡层、DLC应力释放层和DLC疏水层。优点：本发明制备的DLC薄膜具有低应力性能和疏水性。本发明主要用于在基材表面制备DLC薄膜。

主权项

一种在基材表面制备DLC薄膜的方法，其特征在于在基材表面制备DLC薄膜的方法是按以下步骤完成的：一、表面处理：先对基材进行砂纸逐级打磨并抛光处理，然后超声波清洗，得到清洗好的基材；二、离子刻蚀清洗：现有利用Ar离子对基材进行离子刻蚀清洗，再利用金属离子对基材进行离子刻蚀清洗，得到离子刻蚀清洗后基材；三、制备金属过渡层和金属氮化物过渡层：先利用磁控溅射方法在离子刻蚀清洗后基材表面制备金属过渡层，得到金属过渡层‑基材，然后利用磁控溅射方法在金属过渡层‑基材的金属过渡层上制备金属氮化物过渡层，得到金属氮化物过渡层‑金属过渡层‑基材；四、制备DLC应力释放层：利用高功率磁控溅射方法在金属氮化物过渡层‑金属过渡层‑基材的金属氮化物过渡层上制备DLC应力释放层，得到DLC应力释放层‑金属氮化物过渡层‑金属过渡层‑基材；五、制备DLC疏水层：利用高功率磁控溅射方法在DLC应力释放层‑金属氮化物过渡层‑金属过渡层‑基材的DLC应力释放层上制备DLC疏水层，得到DLC疏水层‑DLC应力释放层‑金属氮化物过渡层‑金属过渡层‑基材，即完成在基材表面制备DLC薄膜；步骤五得到的DLC薄膜从下至上依次由金属过渡层、金属氮化物过渡层、DLC应力释放层和DLC疏水层。