[发明专利]一种模拟真空环境中的微波聚焦装置在审

专利信息
申请号: 201410591349.7 申请日: 2014-10-29
公开(公告)号: CN104345236A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 孟凡宝;闫二艳;徐刚;邱风;马弘舸;赵刚;林江川;王艳;陈朝阳;钟龙权 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 卿诚;吴彦峰
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种模拟真空环境中的微波聚焦装置技术方案,该方案包括有微波源、馈源喇叭、介质窗、聚焦反射面、真空腔体和吸波材料;聚焦反射面设置在真空腔体内部的一端;馈源喇叭的敞口端设置在真空腔体上远离聚焦反射面的一端;馈源喇叭的收口端与微波源连接;馈源喇叭的敞口端上设置有介质窗;聚焦反射面的面型为椭球曲面。采用反射面聚焦方式在真空环境中获得局部高强电磁场的便捷途径,可有效降低对微波源的功率要求,大幅降低系统重量和造价,可应用于强场作用下的大气击穿、设备防护和加固实验。
搜索关键词: 一种 模拟 真空 环境 中的 微波 聚焦 装置
【主权项】:
一种模拟真空环境中的微波聚焦装置,其特征是:包括有微波源、馈源喇叭、介质窗、聚焦反射面、真空腔体和吸波材料;所述聚焦反射面设置在设置在真空腔体内部的一端;所述馈源喇叭的敞口端设置在真空腔体上远离聚焦反射面的一端;所述馈源喇叭的收口端与微波源连接;所述馈源喇叭的敞口端上设置有介质窗;所述聚焦反射面的面型为椭球曲面。
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