[发明专利]一种加热腔室及物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201410591738.X | 申请日： | 2014-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN105624633B | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 李萌;张风港;张文;刘菲菲 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/22;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种加热腔室及物理气相沉积设备，该加热腔室内沿其轴向间隔设置至少两个承载件，所述承载件用于承载被加工工件；并且，在加热腔室内，对应每个所述承载件至少设置一个加热元件，该加热元件用于加热与之对应的承载件上的被加工工件。本发明提供的加热腔室，其可以对至少两个被加工工件同时加热，因而可以解决其产出率低的问题，从而可以提高半导体加工设备的产能，进而可以提高经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 加热 及物 理气 沉积 设备 | ||
【主权项】：
1.一种加热腔室，其特征在于，在所述加热腔室内沿其轴向间隔设置至少两个承载件，所述承载件用于承载被加工工件；并且在所述加热腔室内，对应每个所述承载件至少设置一个加热元件，所述加热元件用于加热与之对应的所述承载件上的被加工工件，在所述加热腔室内设置有加热支撑装置，所述加热支撑装置包括支架，所述承载件和所述加热元件设置在所述支架的内周壁上；并且在所述加热支撑装置的侧壁上设置有可供被加工工件通过的传输口；所述支架上还设置有一对电极，所述一对电极中的正电极/负电极与各个所述加热元件的正极/负极对应连接；所述一对电极中的正电极和负电极与电源的正负极对应连接。
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