[发明专利]布局设计系统、布局设计方法及利用其制造的半导体装置有效
申请号: | 201410591856.0 | 申请日: | 2014-10-29 |
公开(公告)号: | CN104657535B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 白尚训;吴祥奎;河罗野;白承元;宋泰中 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;H01L27/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种布局设计系统、一种布局设计方法和一种半导体装置。所述布局设计系统包括:处理器;存储单元,被配置为存储具有第一面积的第一单元设计,其中,在第一单元设计中,在第一单元设计的边界上未布置端子;以及设计模块,被配置为通过在第一单元设计的边界上布置端子来产生具有大于第一面积的第二面积的第二单元设计。 | ||
搜索关键词: | 布局 设计 系统 方法 利用 制造 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种布局设计系统,所述布局设计系统包括:处理器;存储单元,被配置为存储具有第一面积的第一单元设计,其中,在第一单元设计中,在第一单元设计的各个边界上未布置端子;以及设计模块,被配置为通过使用处理器在第一单元设计的边界上布置端子来产生具有大于第一面积的第二面积的第二单元设计,其中,设计模块包括布局模块和端子产生模块,布局模块被配置为将未布置端子的第一单元设计布置在第二单元设计的界限内,端子产生模块被配置为在第一单元设计布置在第二单元设计的界限内之后,在第二单元设计的界限内并且在第一单元设计的边界上布置端子,从而产生第二单元设计。
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