[发明专利]一种生物质谱重叠同位素轮廓的解析方法

摘要

本发明涉及一种生物质谱重叠同位素轮廓的解析方法。本解析方法基于所述质谱的原始一级和二级质谱，通过计算重叠同位素峰的理想实验强度及其与实际实验强度的偏差从而计算重叠同位素峰在各同位素轮廓中的实际分配强度。与现有技术相比，本发明的解析方法对重叠同位素峰的强度的解析和拆分计算量小，通量高，准确度高，适用于生物大分子(如蛋白质，糖类)质谱及串级质谱高效解析及结构准确鉴定。

主权项

一种生物质谱重叠同位素轮廓的解析方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)由质谱图中实验同位素轮廓与数据库中理论同位素轮廓的指纹比对找出重叠离子及其所有同位素峰的理论相对强度与实验绝对强度，包括重叠同位素峰的理论相对强度与实际实验绝对强度之和；(2)以各参与重叠的离子的理论同位素轮廓中无重叠的最高峰作为参考峰，对相应的实验同位素轮廓中每个同位素峰的实验强度进行归一化；(3)计算重叠同位素峰在各个重叠离子中的理想实验绝对强度；(4)计算重叠同位素峰实际实验绝对强度之和相对于理想实验绝对强度之和的强度偏差；(5)计算重叠同位素峰在各参与重叠的离子中的实际实验绝对强度；步骤(3)中，重叠同位素峰在各个重叠离子中的理想实验绝对强度通过以下公式计算得到：各重叠同位素峰的理想实验绝对强度＝各参与重叠的同位素峰的理论相对强度*参考同位素峰实际实验绝对强度/参考同位素峰理论相对强度；步骤(4)中，重叠同位素峰实际实验绝对强度之和相对于理想实验绝对强度之和的强度偏差通过以下公式计算得到：重叠同位素峰实际实验绝对强度之和相对于理想实验绝对强度之和的强度偏差＝[重叠同位素峰的实际实验绝对强度之和—(重叠同位素峰在各重叠离子中的理想实验绝对强度总和)]/(重叠同位素峰在各重叠离子中的理想实验绝对强度总和)；步骤(5)中，重叠同位素峰在各参与重叠的离子中的实际实验绝对强度通过以下公式计算得到：重叠同位素峰在各参与重叠的离子中的实际实验绝对强度＝重叠同位素峰在各重叠离子中的理想实验绝对强度*(1+重叠同位素峰实际实验绝对强度之和相对于理想实验绝对强度之和的强度偏差)。