[发明专利]TiO2量子点复合MoS2纳米花异质结半导体材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410598134.8 申请日: 2014-10-30
公开(公告)号: CN104402052A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 郁可;傅豪;朱自强 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06;C01G23/053;B82Y30/00;B01J27/051
代理公司: 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 代理人: 董红曼
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种TiO2量子点复合MoS2纳米花异质结半导体材料,其包括MoS2纳米花和TiO2纳米颗粒;所述TiO2纳米颗粒均匀且大量分布在所述MoS2纳米花的表面,在花瓣上具有良好复合;所述TiO2纳米颗粒相呈点状密集分布。为本发明还公开了TiO2量子点复合MoS2纳米花异质结半导体材料的制备方法,采用两步溶剂热法使MoS2纳米花上均匀生长出点状TiO2纳米颗粒,得到良好复合形貌的材料。本发明制备方法具有操作简单,产量高,制备成本低等优点。本发明材料在光催化工业废水和场发射领域有极大发展应用潜力。
搜索关键词: tio sub 量子 复合 mos 纳米 花异质结 半导体材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种TiO2量子点复合MoS2纳米花异质结半导体材料,其特征在于,所述材料包括MoS2纳米花和TiO2纳米颗粒;其中,所述TiO2纳米颗粒均匀并且分布在所述MoS2纳米花的表面,在花瓣上复合;所述TiO2纳米颗粒相比所述MoS2纳米花呈点状密集分布。
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