[发明专利]一种光敏性纳米二氧化硅及其制备方法在审
| 申请号： | 201410598578.1 | 申请日： | 2014-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN104327279A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 韦军;路璐;孙祥 | 申请（专利权）人： | 盐城工学院 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;C08G18/32;C08G18/12 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 224051 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种包含夺氢型光引发剂和助引发剂基团的光敏性纳米二氧化硅及其制备方法，通过二异氰酸酯与含二羟基的夺氢型光引发剂进行预聚反应，接着通过扩链反应将助引发剂胺也引入到同一个分子链上，形成主链含有光引发剂及助引发剂胺的聚氨酯预聚体，随后将聚氨酯预聚体进一步接枝到到纳米二氧化硅表面。该发明既克服了传统小分子光引发剂和助引发剂胺的毒性及环境污染缺陷，又避免了纳米粒子的团聚，提高了纳米粒子的分散性；将改性后的纳米粒子填充到光固化体系时，无须额外添加光引发剂，当受到紫外辐照时，分子内的能量转移较快，提高了引发效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光敏 纳米 二氧化硅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光敏性纳米二氧化硅，其特征在于，其化学结构式如下通式所示：![]()
式中：A为纳米二氧化硅；R为：![]()
R1选自![]()
R2选自![]()
R3选自![]()
R4为![]()
m为选自2～6之间的整数；n为选自2～8之间的整数。
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