[发明专利]一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法有效

专利信息
申请号: 201410600730.5 申请日: 2014-10-31
公开(公告)号: CN104475979A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 蒋仕彬 申请(专利权)人: 苏州图森激光有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215011 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,包括如下步骤:(1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器, 单脉冲激光能量为1~2000微焦, 脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使所述脉冲激光束照射到放在二维平移台上的薄膜基板上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s, 光斑交叠程度为10~90%。本发明能够克服现有技术中激光聚焦精度要求高,实现复杂的问题。
搜索关键词: 一种 透明 导电 薄膜 激光 刻蚀 方法
【主权项】:
 一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,其特征在于,包括如下步骤: (1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器, 单脉冲激光能量为1~2000微焦, 脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使所述脉冲激光束照射到放在二维平移台上的薄膜基板上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s, 光斑交叠程度为10~90%。
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