[发明专利]用于图案形成方法的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物

摘要

一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。

主权项

1.一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物用于包括以下步骤的图案形成方法：(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂，其中基于全部固体含量，树脂(A)在整个组合物中的含量为30至99质量％，化合物(B)在整个组合物中的含量为0.1至20质量％，并且基于树脂(A)中的全部重复单元，由下式(I)表示的重复单元的含量少于20摩尔％，并且树脂(A)含除由下式(I)表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元：在式(I)中，Xa表示氢原子或具有1至4的碳数的、未取代的或被羟基或卤素原子取代的直链或支链烷基，并且Rx表示氢原子或能够通过酸的作用分解并离去的基团。