[发明专利]一种高CTI阻燃聚酰胺材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410604059.1 申请日: 2014-10-31
公开(公告)号: CN104403309A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 周淑芬;黄志杰 申请(专利权)人: 浙江俊尔新材料股份有限公司;上海俊尔新材料有限公司
主分类号: C08L77/02 分类号: C08L77/02;C08L77/06;C08L69/00;C08K13/04;C08K7/14;C08K3/34;C08K3/36;C08K5/03;C08K3/22;C08K3/02;B29C47/92
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 325011 浙江省温州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种高CTI阻燃聚酰胺材料,由以下重量百分比原料制成:聚酰胺40-80%、阻燃剂10-25%、成核剂0.1-1%、增强组分0-40%、助剂0.3%-3%;成核剂为由质量比2∶0.5~5∶0.5~5的纳米SiO2、蒙脱土以及聚碳酸酯制成。上述特定量的成核剂能够起到协同效应,通过高CTI阻燃聚酰胺材料内部晶型结构的改变,提高了力学性能和电性能,赋予其高的CTI值,且适用于染色材料品种,可制备断路器外壳、交流接触器基座、底座、线圈骨架等电子、电器产品部件。本发明还公开了一种高CTI阻燃聚酰胺材料的制备方法,采用现有双螺杆挤出机即可实现,其方法简单,生产成本低,易于大规模工业化生产。
搜索关键词: 一种 cti 阻燃 聚酰胺 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高CTI阻燃聚酰胺材料,其特征在于,由以下重量百分比原料制成:所述的成核剂为由质量比2:0.5~5:0.5~5的纳米SiO2、蒙脱土以及聚碳酸酯制成。
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