[发明专利]一种含咔唑基团的间苯二甲酸荧光化学传感器、制备及其应用有效
| 申请号： | 201410610704.0 | 申请日： | 2014-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN104447504B | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 邱文革;郭崇伟;陈云;何洪 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C07D209/86 | 分类号： | C07D209/86;C09K11/06;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
一种含咔唑基团的间苯二甲酸荧光化学传感器、制备及其应用，属于有机化学和分析化学领域。荧光化学传感器为 |
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| 搜索关键词： | 一种 含咔唑 基团 间苯二 甲酸 荧光 化学 传感器 制备 及其 应用 | ||
【主权项】：
含咔唑基团的间苯二甲酸作为荧光化学传感器的应用，含咔唑基团的间苯二甲酸具有如下L1所示的结构式：![]()
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