[发明专利]小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备在审

专利信息
申请号: 201410612086.3 申请日: 2014-11-05
公开(公告)号: CN104480440A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 彭众杰;杨昆昆;贾道宁 申请(专利权)人: 烟台首钢磁性材料股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/16
代理公司: 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 代理人: 矫智兰
地址: 265500 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备,将小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用真空镀膜设备的滚筒中,抽真空至6-9×10-3pa,开启滚筒转动并继续抽真空至3-6×10-3pa后,通入氩气至真空度为3-6×10-1pa后,开启靶源,开始真空镀膜;专用镀膜设备炉体结构为卧式,真空炉体内装有网状滚筒,滚筒的一端固定在后炉壁上并由转轴带动,靶源分别设定在炉体两侧,靶面对准滚筒;此种镀膜方法的特点是无污染,对磁体无损伤,专用镀膜设备结构简单,对试样形状限定小,镀膜效率高;主要用于小尺寸钕铁硼磁体表面金属防腐膜层的制备。
搜索关键词: 尺寸 钕铁硼 磁体 表面 真空镀膜 方法 专用 镀膜 设备
【主权项】:
小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法,其特征在于,包括如下工艺步骤:将脱脂酸洗后的小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用镀膜设备的滚筒中,关闭炉门抽真空至6‑9×10‑3pa后,开启滚筒转动使钢珠与磁体混合均匀,滚筒转速为5‑20r/min,继续抽真空至3‑6×10‑3pa后,打开氩气至真空度为3‑6×10‑1pa后,打开靶源,开始镀膜。
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