[发明专利]蓝宝石图形化衬底的制备方法在审
| 申请号： | 201410618591.9 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN104300046A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 何源;谢祥同;何精明 | 申请（专利权）人： | 苏州瀚墨材料技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/22;H01L33/10 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张汉钦 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蓝宝石图形化衬底的制备方法，包括如下步骤：S1：提供蓝宝石衬底，在蓝宝石衬底上制备高反射率的多层介质薄膜；S2：在多层介质薄膜上沉积铝膜；S3：通过掩膜和刻蚀获得图形化结构；S4：去除掩膜；S5：低温热处理，使图形化结构中的铝膜充分氧化为图形化多晶三氧化二铝膜；高温热处理，使图形化多晶三氧化二铝膜转化为单晶三氧化二铝膜。与现有图形化技术相比，本发明制作方法通过先制作图形化金属铝，在通过分段氧化的方法形成蓝宝石结构，降低了制作工艺难度和制作成本。本方法中的图形化结构包括多层介质反射层，以此制作的图形化衬底能大大提高光的取出效率，从而提高LED器件发光效率，具有重大的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 蓝宝石 图形 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石图形化衬底的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：提供蓝宝石衬底，在蓝宝石衬底上制备高反射率的多层介质薄膜，所述的多层介质薄膜的厚度为100nm~1.5μm；S2：在所述的多层介质薄膜上沉积铝膜，铝膜的厚度为5~400nm； S3：通过掩膜和刻蚀获得图形化结构；S4：去除掩膜；S5：低温热处理，在400‑600℃下加热20分钟到5小时使图形化结构中的铝膜充分氧化为图形化多晶三氧化二铝膜；高温热处理，在700‑900℃下加热1到5小时，在1000‑1250℃下加热1到5小时，使图形化多晶三氧化二铝膜转化为致密的单晶三氧化二铝膜。
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