[发明专利]利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法有效

专利信息
申请号: 201410619490.3 申请日: 2014-11-05
公开(公告)号: CN104356742A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 苏炜;李培源;庞锦英 申请(专利权)人: 广西师范学院
主分类号: C09D11/02 分类号: C09D11/02;B41M5/04;C08J7/06
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 靳浩
地址: 530001 广西壮族自*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法。具体步骤为:1)基底表面处理;2)制备八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液;3)制备羧基化石墨烯水溶液;4)微接触印刷;5)化学镀。本发明的有益效果:1.通过利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案,为微接触印刷行业提供了新思路,2.石墨烯是目前发现的电阻率最小的材料,它比其它线路如铜、银线路具有更强的导电性,3.酞菁类分子和羧基化石墨烯的结合,包括酞菁和石墨烯的π-π相互作用力,以及羧基化石墨烯的羧基与酞菁之间的配位键结合,因此结合非常紧密,4.八羟基酞菁锌原料易得、成本低、稳定,在工业应用上具有很大的潜力。
搜索关键词: 利用 羟基 酞菁锌 进行 接触 印刷 石墨 图案 方法
【主权项】:
利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法,其特征在于:本发明采用的八羟基酞菁锌,具有以下结构式:将八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液作为微接触印刷的印刷剂,将PDMS印章的图案转移至聚四氟乙烯基底,再利用酞菁和石墨烯的π‑π相互作用力在基底上得到精美的石墨烯图案,具体步骤如下:步骤1:基底为聚四氟乙烯,将基底材料用乙醇超声清洗1小时,取出80℃真空干燥,用60Co伽玛射线对其照射24h;将照射后的基底200份放入三颈瓶中,加入4‑乙烯基吡啶1份,500份蒸馏水,80℃条件下反应1小时,得到表面含有吡啶基的基底;步骤2:将八羟基酞菁锌用二氯甲烷完全溶解;步骤3:将羧基化石墨烯溶于水中,超声1分钟使其均匀溶解;步骤4:将PDMS印章浸泡于八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液中1‑2分钟,取出后于N2气流中干燥30‑60s,将涂有八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液的PDMS印章盖于表面含有吡啶基的基底上,轻压10‑20s,将PDMS印章图案转移至基底,得到印有图案的基底;步骤5:将印有图案的基底浸泡于石墨烯溶液中10‑30min,取出后即可在基底上得到精美的石墨烯图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广西师范学院,未经广西师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410619490.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top