[发明专利]纳米氧化亚铜颗粒的制备方法以及形貌和粒径调控方法有效

专利信息
申请号: 201410621156.1 申请日: 2014-11-06
公开(公告)号: CN105621473B 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 赵文杰;王佳兴;李赫;曹慧军;乌学东;曾志翔;薛群基 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C01G3/02 分类号: C01G3/02;B82Y30/00
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 代理人: 单英
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种纳米氧化亚铜颗粒的制备方法。该方法仅以铜盐、强碱、还原剂为原料,在铜盐溶液中先后加入强碱溶液与还原剂溶液而制备,控制铜离子氢氧根离子还原剂的摩尔比为1(2~10)(0.5~10),氢氧根离子的加入速率为0.04mol/h~0.8mol/h,还原剂的加入速率为0.05mol/h~0.8mol/h,能够得到粒径均匀、形貌规整的纳米氧化亚铜,因此降低了成本、简化了制备工艺。另外,通过调控强碱、还原剂的加入速率、强碱、还原剂加入后的反应温度和反应时间,以及还原反应完成后的静置时间实现了对纳米氧化亚铜形貌与粒径的有效调控,其粒径调控范围在300nm~1000nm,形貌调控范围为立方体形、球形、八面体形等形状。
搜索关键词: 纳米 氧化亚铜 颗粒 制备 方法 以及 形貌 粒径 调控
【主权项】:
一种纳米氧化亚铜颗粒的制备方法,以铜盐、强碱、还原剂为原料,采用溶液化学还原法制备,其特征是:控制铜离子:氢氧根离子:还原剂的摩尔比为1:(4~8):(2~5),具体过程为:在铜盐溶液中加入强碱溶液,控制氢氧根离子的加入速率为0.04mol/h~0.8mol/h,滴加完毕后升温至50~80℃,待充分反应生成氢氧化铜后加入还原剂溶液进行还原反应,控制还原剂的加入速率为0.08mol/h~0.5mol/h,待充分反应后静置,然后经水洗、醇洗、过滤干燥后得到纳米氧化亚铜颗粒;所述的还原剂选自水合肼、硼氢化钠、亚硫酸钠、葡萄糖、甲醛、抗坏血酸中的一种或两种以上的混合;所述的纳米氧化亚铜粒径为300nm~1000nm,形貌呈立方体形、球形或者八面体形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所,未经中国科学院宁波材料技术与工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410621156.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top