[发明专利]适用于多基因型的苦瓜高效再生体系的建立方法

摘要

本发明公开了适用于多基因型的苦瓜高效再生体系的建立方法，所述方法包括前处理、不定芽的诱导、继代培养、不定芽的伸长、生根培养、炼苗和移栽步骤。在前处理过程中，所用植物生长调节剂为浓度为1-5mg/L的6-BA；在不定芽的诱导过程中，所用植物生长调节剂为6-BA和KT，6-BA的浓度为1-4mg/L，KT的浓度为0.1-1.0mg/L；在不定芽的伸长过程中，所用植物生长调节剂为6-BA和IBA，6-BA的浓度为1.0mg/L，IBA的浓度为0.1-0.3mg/L。本发明不仅适应于多基因型苦瓜的再生培养，而且具有诱导率高、不定芽诱导数目多、不定芽长以及实施条件不苛刻的优点，具有良好的推广前景。

主权项

适用于多基因型的苦瓜高效再生体系的建立方法，其特征在于：包括如下步骤：1）前处理：将苦瓜种子剥去种皮后进行灭菌，然后放入含6‑BA的MS培养基进行培养，培养时间为7天，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/天，6‑BA的浓度为1‑5mg/L；2）不定芽的诱导：切取带一个子叶的子叶节，然后放入含6‑BA和 KT的MS培养基进行培养，培养时间为7天，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/天，6‑BA的浓度为2‑4mg/L，KT的浓度为0.1‑1.0mg/L；3）继代培养：将步骤2）所得物的不定芽的腋芽切下，弃掉，然后将剩余物接种于含6‑BA和 KT的MS培养基进行培养，培养时间为7天，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/天,6‑BA的浓度为2‑4mg/L，KT的浓度为0.1‑1.0mg/L；4）不定芽的伸长：将步骤3）所得物放入含6‑BA和IBA的MS培养基进行培养，培养时间为14天，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/天，6‑BA的浓度为1.0mg/L，IBA的浓度为0.1‑0.3mg/L；5）生根培养：将步骤4）所得物的不定芽切下，接种在含生根培养基的培养瓶中培养，培养时间为14天，培养温度为保持在23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/天，所述生根培养基为1/2 MS培养基添加30g/L蔗糖和7g/L琼脂，pH=5.8；6）炼苗：选取经步骤5）培养后的根长为4‑5 cm的健壮小苗，将培养瓶的盖子先拧松放置2天，再半开2天，然后再全开2 d，半开和全开盖子期间需要不断补充水分；7）移栽：将炼苗完成后的植株拔起，用水洗净根部培养基，移栽到装有泥炭土、珍珠岩、草木灰和腐叶土基质的营养钵中，在23‑27℃下，套上保鲜袋置于人工气候箱中保湿培养2 d，1‑2周后再移到室外进行培养。