[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201410621830.6 申请日: 2014-11-07
公开(公告)号: CN104637943A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: F.希尔勒 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 申屠伟进;胡莉莉
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要: 发明涉及半导体器件。提供一种包含复合半导体主体的半导体器件,所述复合半导体主体包含高电压耗尽模式晶体管和低电压增强模式晶体管。高电压耗尽模式晶体管被堆叠在低电压增强模式晶体管上使得在高电压耗尽模式晶体管和低电压增强模式晶体管之间形成界面。低电压增强模式晶体管包含与高电压耗尽模式晶体管的电流路径串联耦合的电流路径,以及布置在界面处的控制电极。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:复合半导体主体,包括:  高电压耗尽模式晶体管;以及  低电压增强模式晶体管,高电压耗尽模式晶体管被堆叠在低电压增强模式晶体管上使得在高电压耗尽模式晶体管和低电压增强模式晶体管之间形成界面,  其中低电压增强模式晶体管包括与高电压耗尽模式晶体管的电流路径串联耦合的电流路径以及布置在界面处的控制电极。
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