[发明专利]一种芯片集成的2微米波长微型激光器有效

专利信息
申请号: 201410625717.5 申请日: 2014-11-07
公开(公告)号: CN104466657B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 姜校顺;范会博;丁杨;肖敏 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01S3/16 分类号: H01S3/16;H01S3/083
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 张学彪
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种芯片集成的2微米波长微型激光器,包括稀土掺杂氧化硅微环芯腔和微纳光纤,其中微纳光纤处于所述氧化硅微环芯腔的一侧,所述氧化硅微环芯腔通过如下方法制备得到(1)通过溶胶凝胶法在硅片表面制备稀土掺杂的氧化硅薄膜;(2)在所述氧化硅薄膜表面上用光刻、刻蚀工艺制备出氧化硅微盘腔;(3)利用二氧化碳激光器对所述氧化硅微盘腔进行加热回流处理得到氧化硅微环芯腔。本发明的利用溶胶凝胶稀土掺杂方法制备得到的2微米波长微型激光器具有芯片集成、微型化、稳定、阈值低等特性,通过二氧化碳激光回流的功率及时间,可优化腔内的能量模式体积,得到品质更优的激光器。
搜索关键词: 一种 芯片 集成 微米 波长 微型 激光器
【主权项】:
一种芯片集成的2微米波长微型激光器,包括稀土掺杂的氧化硅微环芯腔和微纳光纤,其中微纳光纤位于所述氧化硅微环芯腔的一侧,其特征在于:所述微型激光器的激光波长为1750纳米~2050纳米,所述氧化硅微环芯腔通过以下方法制备得到:(1)通过溶胶凝胶法在硅片表面制备稀土掺杂的氧化硅薄膜,其中,溶胶凝胶过程中掺入的稀土杂质为铥离子和钬离子,铥离子和钬离子的浓度比为5‑40;(2)在所述氧化硅薄膜表面上用光刻、氢氟酸刻蚀和二氟化氙刻蚀工艺制备出氧化硅微盘腔,所述氧化硅微盘腔通过硅柱连接硅片;(3)利用二氧化碳激光器对所述氧化硅微盘腔进行加热回流处理,所述二氧化碳激光器的功率为7~10W,加热回流处理的时间为25~35秒,首先用第一功率激光照射所述氧化硅微盘腔的表面10‑15秒,得到初始状态氧化硅微环芯腔,然后用第二功率激光照射所述初始状态微环芯腔的表面15‑20秒,第一功率激光的功率大于第二功率激光的功率,第一功率激光和第二功率激光的功率均为7~10W最终,制得氧化硅微环芯腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学,未经南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410625717.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top