[发明专利]一种制备富勒烯纳米结构的方法有效
申请号: | 201410633383.6 | 申请日: | 2014-11-11 |
公开(公告)号: | CN104401964A | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 万能;万树 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;B82Y30/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陈琛 |
地址: | 214135 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种制备富勒烯纳米结构的方法,具体步骤如下:在洁净的衬底材料表面制备非晶碳层,碳层的厚度为2-6纳米;将制备有非晶碳层的衬底放入真空室,抽真空至体系真空度达到2*10-3Pa以下;开启电子枪,将电子束汇聚至衬底表面,电子束的束流强度为103-105e*s^(-1)*nm^(-2),经过10-200分钟的电子束辐照后即在电子束辐照点位置制备得到富勒烯材料。可以定点在特定位置制备单个的富勒烯颗粒;可以获得不同层数的富勒烯材料;所获得的富勒烯材料结构状态良好。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 富勒烯 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种制备富勒烯纳米结构的方法,其特征在于:具体步骤如下:(1)在洁净的衬底材料表面制备非晶碳层,碳层的厚度为2‑6纳米;(2)将制备有非晶碳层的衬底放入真空室,抽真空至体系真空度达到2*10‑3Pa以下;(3)开启电子枪,将电子束汇聚至衬底表面,电子束的束流强度为103‑105e*s^(‑1)*nm^(‑2),经过10‑200分钟的电子束辐照后即在电子束辐照点位置制备得到富勒烯材料。
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