[发明专利]激光熔覆制备极限电流型氧传感器致密扩散障碍层的方法有效

专利信息
申请号: 201410635268.2 申请日: 2014-11-12
公开(公告)号: CN104357836A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 刘涛;葛启桢;侯羽航;秦华杰 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 李在川
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 针对现有技术中极限电流型氧传感器的致密扩散障碍层制备方法中存在的不足,提供了一种激光熔覆制备极限电流型氧传感器致密扩散障碍层的方法,属于激光熔覆技术领域。该方法先通过采用预置法将致密扩散障碍层粉体La0.84Sr0.16MnO3或La0.8Sr0.2Ga0.2Fe0.8O3-δ粘附在La0.8Sr0.2Ga0.83Mg0.17O3-δ或ZrO2(Y2O3)固体电解质表面,再利用激光器将上述的致密扩散障碍层粉体熔覆在固体电解质表面,即得到了覆盖有致密扩散障碍层的固体电解质。通过该方法制备的致密扩散障碍层,其组织致密均匀,无气孔,与基体结合强度高,宽度和厚度可精确控制,而且可使基体的热影响区范围和变形减小到最低程度,制造周期短。
搜索关键词: 激光 制备 极限 电流 传感器 致密 扩散 障碍 方法
【主权项】:
一种激光熔覆制备极限电流型氧传感器致密扩散障碍层的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)采用预置法将致密扩散障碍层粉体La0.84Sr0.16MnO3或La0.8Sr0.2Ga0.2Fe0.8O3‑δ粘附在La0.8Sr0.2Ga0.83Mg0.17O3‑δ或ZrO2(Y2O3)固体电解质表面;(2)利用激光器将上述的致密扩散障碍层粉体熔覆在固体电解质表面,粉体快速冷却形成一层合金熔覆层,即得到了覆盖有致密扩散障碍层的固体电解质,制得的致密扩散障碍层的厚度≤2mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北大学,未经东北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410635268.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top