[发明专利]一种曝光机有效
| 申请号： | 201410635850.9 | 申请日： | 2014-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN104298081A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 吴旭;刘兴东;刘威;祝明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及到显示装置制作的技术领域，公开了一种曝光机。该曝光机包含至少一个曝光单元，每个曝光单元包括：多个间隔设置的支撑平台，且相邻的两个支撑平台之间设置有提升杆，每个提升杆与其相邻的每个支撑平台之间具有间隙；其中，每个支撑平台朝向其相邻的提升杆的一侧设置有用于反射照射到所述间隙内的光线的反射平台，且所述反射平台的反射面低于所述提升杆的支撑面。在上述技术方案中，通过设置的反射平台反射照射到间隙内的光线，从而使得照射到支撑平台、提升杆及间隙之间的光线的反射光线相近似，从而提高了曝光机对基板曝光的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 | ||
【主权项】：
一种曝光机，其特征在于，包含至少一个曝光单元，每个曝光单元包括：多个间隔设置的支撑平台，且相邻的两个支撑平台之间设置有提升杆，每个提升杆与其相邻的每个支撑平台之间具有间隙；其中，每个支撑平台朝向其相邻的提升杆的一侧设置有用于反射照射到所述间隙内光线的反射平台，且所述反射平台的反射面低于所述提升杆的支撑面。
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