[发明专利]一种基于吸收边原理的X射线屏蔽结构有效
| 申请号： | 201410636715.6 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105609151B | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 牛振红;张力;李志峰;杜润乐;薛莲;刘佳琪 | 申请（专利权）人： | 北京航天长征飞行器研究所;中国运载火箭技术研究院 |
| 主分类号： | G21F1/12 | 分类号： | G21F1/12;G21F1/08 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 李东斌 |
| 地址： | 100076 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及X射线辐射防护技术领域，具体公开了一种基于吸收边原理的X射线屏蔽结构。一种基于吸收边原理的X射线屏蔽结构，该结构包括第一铝合金层、屏蔽层以及第二铝合金层，其中，沿X射线入射方向依次为第一铝合金层、屏蔽层以及第二铝合金层，其中，屏蔽层由铅和/或镝和/或钽合金构成。本发明所述的一种基于吸收边原理的X射线屏蔽结构重量轻，能够屏蔽X射线和屏蔽X射线所产生的次级电子，达到较好的屏蔽效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 吸收 原理 射线 屏蔽 结构 | ||
【主权项】：
1.一种基于吸收边原理的X射线屏蔽结构，其特征在于：该结构包括第一铝合金层(1)、屏蔽层(2)以及第二铝合金层(3)，其中，沿X射线入射方向依次为第一铝合金层(1)、屏蔽层(2)以及第二铝合金层(3)，其中，屏蔽层由铅和/或镝和/或钽合金构成；所述的屏蔽层(2)的厚度为0.1mm～0.5mm，所述的屏蔽层(2)中铅的含量不低于50％。
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