[发明专利]电子装置、曝光装置和图像形成装置在审
| 申请号： | 201410638325.2 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN104808461A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 芳野一弘 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;G03G15/00;H01B7/08;H01B7/17 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王小东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供电子装置、曝光装置和图像形成装置。该电子装置包括：壳体，该壳体由导体形成；第一电缆，该第一电缆包括第一屏蔽层、排布在第一屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖导线组的第一绝缘层，并且该第一电缆被布置为使第一绝缘层与壳体接触；以及第二电缆，该第二电缆包括第二屏蔽层、排布在第二屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖导线组的第二绝缘层，并且该第二电缆堆叠在第一电缆上，以使第二绝缘层与第一屏蔽层接触。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 装置 曝光 图像 形成 | ||
【主权项】：
一种电子装置，该电子装置包括：壳体，该壳体由导体形成；第一电缆，该第一电缆包括第一屏蔽层、排布在所述第一屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖所述导线组的第一绝缘层，并且该第一电缆被布置为使所述第一绝缘层与所述壳体接触；以及第二电缆，该第二电缆包括第二屏蔽层、排布在所述第二屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖所述导线组的第二绝缘层，并且该第二电缆堆叠在所述第一电缆上，以使所述第二绝缘层与所述第一屏蔽层接触。
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