[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统

摘要

本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。不给基板的表面带来影响就能够去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、剥离处理液供给工序和溶解处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，将含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液向基板供给。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。溶解处理液供给工序在剥离处理液供给工序后，在溶解处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜溶解的溶解处理液。

主权项

1.一种基板清洗方法，其特征在于，该基板清洗方法包括：成膜处理液供给工序，在该成膜处理液供给工序中，向所述基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液；剥离处理液供给工序，在该剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自所述基板剥离的剥离处理液，该处理膜是所述成膜处理液因所述挥发成分挥发而在所述基板上固化或硬化而成的，以及溶解处理液供给工序，在所述剥离处理液供给工序后，向所述处理膜供给用于使该处理膜溶解的溶解处理液，其中，在所述成膜处理液供给工序中，所述成膜处理液被以与所述基板之间未隔有抗蚀剂的状态供给到所述基板上。